拟定增12.5亿元！拉普拉斯推进钙钛矿光伏等项目研发！

【企业布局】7月24日拉普拉斯披露机构调研纪要，公司持续研发钙钛矿真空、激光、磁控溅射设备，7月17日取得闪蒸炉专利，解决钙钛矿成膜均匀性与速率矛盾；22.01亿定增中12.5亿元用于光伏半导体装备研发，覆盖TOPCon、XBC、钙钛矿路线；半导体ECD沉积设备完成α机测试，进入β机验证。伴随光伏能效国标GB 47834—2026落地，存量产线升级将打开设备增量空间。

根据拉普拉斯7月24日对外公布的投资者关系活动记录，该公司于7月20日至21日，接待了包括东方红资管、富国基金、兴全基金在内的十余家机构开展的特定对象调研，期间详细介绍了在钙钛矿设备板块的布局动态。

调研过程中，公司明确指出，正稳步深化在钙钛矿核心真空工艺设备、激光技术装备以及磁控溅射物理气相沉积平台等前沿领域的前瞻性研究与技术攻关，致力于拓宽产品矩阵、夯实技术根基。值得一提的是，公司在钙钛矿设备技术研发方面已取得阶段性成果。国家知识产权局公开信息显示，7月17日，公司成功斩获“闪蒸炉及闪蒸设备”实用新型专利，此项专利有效攻克了钙钛矿溶液流动性过高，致使结晶成膜速度与膜层均匀性难以同步保障的行业难题。

此外，调研信息还披露，公司计划于2026年实施定增，拟募集资金上限达22.01亿元，其中将划拨12.5亿元专项用于光伏及半导体高端装备研发项目，聚焦TOPCon、XBC、钙钛矿等多元技术路径的核心设备深度研发。

与此同时，公司自主研发的半导体先进封装电化学沉积设备(ECD)已完成α机测试验证，正式迈入β机验证阶段。拉普拉斯强调，当前光伏产业正处于由“规模驱动”向“质量提升”转变的关键时期，随着国家能效新标准(GB
47834—2026)的落地实施，存量产能将加速向先进技术迭代升级，这无疑为公司设备业务开拓了全新的市场机遇。

【责任编辑：Eva】